知识产权维权100问(第29期)| 什么行为构成对集成电路布图设计专有权的侵权?

作者:郭楠   发布时间:2024-01-29

什么行为构成对集成电路布图设计专有权的侵权?

 

 

(1)未经集成电路布图设计权利人许可,复制受保护的集成电路布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的;

(2)未经集成电路布图设计权利人许可,为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的集成电路布图设计、含有该集成电路布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的。

 

 

但以下情况可以不经布图设计权利人许可,不向其支付报酬:

 

(1)为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的集成电路布图设计的;

(2)在依据前项评价、分析受保护的集成电路布图设计的基础上,创作出具有独创性的集成电路布图设计的;

(3)对自己独立创作的与他人相同的集成电路布图设计进行复制或者将其投入商业利用的。

 

 

苏州赛某电子科技有限公司诉深圳裕某科技有限公司等侵害集成电路布图设计专有权纠纷案


案情简介

 

 

上诉人(原审被告):深圳裕某科技有限公司

上诉人(原审被告):户某某

上诉人(原审被告):黄某东

上诉人(原审被告):黄某亮

被上诉人(原审原告):苏州赛某电子科技有限公司

 

苏州赛某电子科技有限公司(以下简称赛某公司)于2012年4月22日申请登记了名称为“集成控制器与开关管的单芯片负极保护的锂电池保护芯片”的集成电路布图设计,并于2012年6月8日公告,该集成电路布图设计专有权至今处于有效状态。深圳准某电子有限公司(以下简称准某公司,已注销)未经许可,复制、销售的芯片与涉案集成电路布图设计实质相同。深圳裕某科技有限公司(以下简称裕某公司)为准某公司的销售行为代开发票。被诉侵权行为发生时,户某欢为准某公司的唯一股东,持有裕某公司51%的股权,并同时担任两公司的法定代表人。户某欢后将准某公司股权转让给黄某东、黄某亮。在一审诉讼期间,黄某东、黄某亮注销了准某公司。

 

赛某公司认为,准某公司、裕某公司共同侵害了涉案集成电路布图设计专有权,户某欢、黄某东、黄某亮应对准某公司承担连带责任。故诉至法院请求判令停止侵权,裕某公司、户某欢、黄某东、黄某亮连带赔偿经济损失。

 

法院裁判

 

 

广东省深圳市中级人民法院判决:

一、裕某公司在判决生效之日起十日内赔偿赛某公司经济损失50万元;

二、户某欢、黄某东、黄某亮对上述赔偿金额承担连带责任;

三、驳回赛某公司其余诉讼请求。

如果未能按照判决指定的期间履行给付金钱义务,应当按照《中华人民共和国民事诉讼法》第二百五十三条之规定,加倍支付迟延履行期间的债务利息。一审案件受理费13800元、鉴定费用168400元、鉴定人出庭作证费用20465元,由裕某公司、户某欢、黄某东、黄某亮承担。

 

最高人民法院判决:

驳回上诉,维持原判。

二审案件受理费8800元,由深圳裕某科技有限公司、户某欢、黄某东、黄某亮负担。

 

法院观点聚焦(其一)

 

是否只能以登记时已经公开的内容确定保护范围?

裕某公司上诉提出,布图设计专有权是以“公开换保护”,布图设计专有权的保护范围应限于对公众公开的部分。

 

本院认为,不同于专利法对发明创造采取公开换保护的制度设计,条例对布图设计的保护并不以权利人公开布图设计为条件。条例规定了布图设计登记时应提交的材料,同时参照实施细则,其第三十九条规定“布图设计登记公告后,公众可以请求查阅该布图设计登记簿或者请求国家知识产权局提供该登记簿的副本。公众也可以请求查阅该布图设计的复制件或者图样的纸件。本细则第十四条所述的电子版本的复制件或者图样,除侵权诉讼或者行政处理程序需要外,任何人不得查阅或者复制”;第十五条规定“布图设计在申请日之前没有投入商业利用的,该布图设计登记申请可以有保密信息,其比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的50%。含有保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数应当与布图设计登记申请表中所填写的一致。布图设计登记申请有保密信息的,含有该保密信息的图层的复制件或者图样纸件应当置于在另一个保密文档袋中提交。除侵权诉讼或者行政处理程序需要外,任何人不得查阅或者复制该保密信息”。

 

可见,国家知识产权局在布图设计的登记审查时,对纸件的要求是至少放大到20倍以上,对电子版本的要求是包含布图设计的全部信息。登记公告后,公众可以请求查阅的是纸件,对于已经投入商业利用的布图设计纸件中涉及的保密信息,除侵权诉讼或行政处理程序的需要,不得查阅或复制;对于电子版本,同样除侵权诉讼或行政处理程序需要外,任何人不得查阅或复制。

 

从上述规定内容可以看出,无论在登记过程中还是登记公告后,对含有布图设计全部信息的电子版本和已投入商业利用的布图设计纸件中的保密信息均没有对公众无条件全部公开的要求。

 

 

涉案重点法条

 

 

 

《集成电路布图设计保护条例实施细则》

第十四条:复制件或者图样

按照条例第十六条规定提交的布图设计的复制件或者图样应当符合下列要求:

(一)复制件或者图样的纸件应当至少放大到用该布图设计生产的集成电路的20倍以上;申请人可以同时提供该复制件或者图样的电子版本;提交电子版本的复制件或者图样的,应当包含该布图设计的全部信息,并注明文件的数据格式;

(二)复制件或者图样有多张纸件的,应当顺序编号并附具目录;

(三)复制件或者图样的纸件应当使用A4纸格式;如果大于A4纸的,应当折叠成A4纸格式;

(四)复制件或者图样可以附具简单的文字说明,说明该集成电路布图设计的结构、技术、功能和其他需要说明的事项。

 

第十五条:涉及保密信息的申请

布图设计在申请日之前没有投入商业利用的,该布图设计登记申请可以有保密信息,其比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的50%。含有保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数应当与布图设计登记申请表中所填写的一致。

 

布图设计登记申请有保密信息的,含有该保密信息的图层的复制件或者图样纸件应当置于在另一个保密文档袋中提交。除侵权诉讼或者行政处理程序需要外,任何人不得查阅或者复制该保密信息。

 

第三十九条:公众查阅和复制


布图设计登记公告后,公众可以请求查阅该布图设计登记簿或者请求国家知识产权局提供该登记簿的副本。公众也可以请求查阅该布图设计的复制件或者图样的纸件。

 

本细则第十四条所述的电子版本的复制件或者图样,除侵权诉讼或者行政处理程序需要外,任何人不得查阅或者复制。